SMIC научилась делать 5-нм чипы без американского оборудования.
Freepik
Китайский производитель полупроводников, компания SMIC, добилась получения качественных чипов, выполненных по 5-нм технологическому процессу, без использования современных литографических машин EUV. Компания использовала старый процесс глубокого ультрафиолета DUV в сочетании с процессом SAQP.
Несмотря на то, что технология китайской компании намного сложнее в реализации, чем EUV-процесс, и обеспечивает существенно меньший выход годных чипов, это достижение может кардинальным образом изменить мировую полупроводниковую промышленность. Освоение новой технологии позволит Китаю самостоятельно разрабатывать новые чипы для искусственного интеллекта и связи 5G без оглядки на ограничения со стороны США.
Стало известно, что китайский производитель уже экспериментировал со своей технологией для получения чипов, выполненных по 3-нм технологическому процессу. В случае успеха это позволит Китаю перестать опираться на решения американских властей в поставках чипов и может привести к значительному прогрессу в производстве процессоров и чипов для работы с искусственным интеллектом. Ранее ИА «Бизнес Код» писало, что TSMC нарастил прибыль.
